Grafit Wafer Carrier

Skicka förfrågan
Grafit Wafer Carrier
Detaljer
Grafitwaferbärare för halvledartillverkningsutrustning. Isostatisk grafit med hög renhet säkerställer platt, konsekvent waferbearbetning vid höga temperaturer.
Produktklassificering
Wafer Graphite Carrier
Share to
Beskrivning

Graphite Wafer Carrier för halvledarbearbetning

Grafitwaferbärare är precisionsbearbetade komponenter som används i halvledartillverkningsutrustning för att hålla och transportera kiselwafers under högtemperaturbearbetningssteg som diffusion, CVD och epitaxi.

Våra waferbärare är gjorda av isostatisk grafit av hög renhet med utmärkt termisk stabilitet och låg kontaminering, och säkerställer platt, konsekvent waferbearbetning vid temperaturer upp till 1200C.

Nyckelfunktioner

  • Högrent grafitmaterial med låga metalliska föroreningar
  • Precisionsbearbetade fickor för exakt inriktning av wafer
  • Utmärkt termisk stabilitet vid höga temperaturer
  • Låg avgasning i vakuum- och processgasmiljöer
  • Anpassade fickstorlekar och konfigurationer tillgängliga
  • SiC-beläggningsalternativ för förlängd livslängd

Ansökningar

  • Halvledardiffusionsugnar
  • CVD- och PVD-bearbetningsutrustning
  • Epitaxiell wafertillväxt
  • Tillverkning av fotovoltaiska solceller

Varför välja Jincheng

  • 15 års erfarenhet av halvledargrafitkomponenter
  • Renrumstillverkning för låg kontaminering
  • Anpassad designtjänst enligt dina utrustningskrav
  • Konkurrenskraftiga priser och snabb leverans

Populära Taggar: grafitwaferbärare, halvledarwaferbåt, silikonwaferhållare, CVD waferbärare, grafitwaferbricka, diffusionsugnsbåt, grafitelektroder för tillverkning av IC, grafit VC enhetlig temperaturplatta, hög precision vc sintringsvärmeledande platta, halvledargrafit kylflänsar, halvledargrafit enhetlig temperaturplatta, Wafergrafitbärare

Skicka förfrågan